Frank Rohmund, director de Zeiss SMT, aseguró que Pekín tardará más de una década en desarrollar sus propias máquinas EUV, mientras EE.UU. refuerza restricciones y China busca alternativas para lograr autosuficiencia tecnológica.
El experto en semiconductores Frank Rohmund, director ejecutivo de la división de Zeiss SMT, afirmó que China se encuentra 15 años atrasada en el desarrollo de la tecnología necesaria para fabricar chips de última generación. La declaración se dio durante la feria Semicon Taiwan, en entrevista con Bloomberg TV.
Según Rohmund, el gigante asiático necesitará al menos una década y media para producir sus propias máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV), utilizadas por la neerlandesa ASML y consideradas esenciales para fabricar procesadores avanzados de inteligencia artificial y supercomputación. “Es un supuesto razonable”, señaló, aunque reconoció que el ritmo real de los avances chinos es difícil de cuantificar.
La litografía EUV permite grabar miles de millones de transistores en escalas inferiores a los 7 nanómetros, algo que hoy solo ASML domina comercialmente. Washington ha prohibido la exportación de estas máquinas a China y exige licencias incluso para modelos de litografía DUV más sofisticados.
Rohmund advirtió que las restricciones podrían tener un efecto contrario al esperado: “No creemos en el impacto positivo de estas medidas, porque aceleran la innovación en China”. De hecho, Pekín ha invertido fuertemente en su industria de semiconductores y ya logró avances en la producción de máquinas DUV, aunque aún lejos del nivel tecnológico de ASML.
El retraso tecnológico coloca a China en desventaja frente a competidores como Taiwán, Corea del Sur y Estados Unidos, pero también refuerza su estrategia de autosuficiencia. Analistas señalan que, aunque el camino hacia la EUV será largo, la presión de las sanciones podría acelerar proyectos alternativos, como el uso de aceleradores de partículas para fabricar chips avanzados hacia 2028.
